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光学镀膜材料制备技术

来源:本站 发布日期:2020-09-15

  公司生产的光学镀膜材料主要为氟化镁。该材料是在真空熔融状态下,采用“双坩埚区熔连续漏注工艺”对氟化镁原料进行加工,通过大气烧结、提纯处理、氟化处理等过程分离其杂质,使其达到所需要的高纯度与结晶度。“双坩埚区熔连续漏注工艺”是公司独有技术,它最大优点是可以大幅度地提高产量。另外公司技术人员还对真空炉内的构造进行了全面的设计改造。真空系统采用局部加热区熔炼、漏注淬火工艺,使产品自身炸裂,形成颗粒状结构。该系统保证产品不出片状,少出粉末,提高了产品球状度和成品率。
  产品简介:
  ■专业生产高纯度MgF2光学镀膜材料、CaF2光学晶体;
  ■公司产品全部通过ISO9001-2000质量认证;
  ■MgF2光学镀膜材料通过SGS以及MSDS等国际认证;
  1.光学镀膜材料:                   
  独立研发生产MgF2镀膜材料(纯度:99.99% ),密度:3.18g/cm3,折射率:1.38(0.50µ),产品性能已达到或超过国外公司的同类产品水平。
  2.光学晶体生长与加工:
  独立研发生长CaF2光学晶体,拥有批量生产能力,可提供棒料(<ø220mm,单晶或多晶)、规格毛坯及各种透镜、棱镜、窗口等。 
  产品价格:
  MgF2:常规规格1-2/2-3/3-4 mm,如需特种规格请提前联系,具体价格请电询。

  CaF2:按客户要求订制,具体价格请电询。